Тънкослойно оборудване с катодна дъга

Тънкослойно оборудване с катодна дъга

Детайли
Система за физическо отлагане на пари (PVD), използваща локализирани електрически дъги с ниско-волтаж и висок-ток за изпаряване на твърди катодни цели в напълно йонизирана плазма. Високата степен на йонизация (40%-80%) води до плътно свързване на атомно-ниво и голямо напрежение на натиск, позволявайки високо-отлагане на износоустойчиви-и декоративни покрития върху бързорежеща стомана (HSS), карбидни режещи инструменти, автомобилни компоненти и медицински устройства.
Класификация на продуктите
Тънкослойно оборудване за дъгово изпаряване
 
Изпрати запитване
Описание
Технически параметри

Система за физическо отлагане на пари (PVD), използваща локализирани електрически дъги с ниско-волтаж и висок-ток за изпаряване на твърди катодни цели в напълно йонизирана плазма. Високата степен на йонизация (40%-80%) води до плътно свързване на атомно-ниво и голямо напрежение на натиск, позволявайки високо-отлагане на износоустойчиви-и декоративни покрития върху бързорежеща стомана (HSS), карбидни режещи инструменти, автомобилни компоненти и медицински устройства.

 

Технически спецификации

 

Параметър

Спецификация Диапазон / Детайли

Размери на камерата

Персонализиран вътрешен обем (Φ 800 × 1000 mm до Φ 1500 × 1600 mm, SUS304/SUS316L двойно{6}}стенно водно-охлаждане)

Крайно налягане

По-малко или равно на 5,0 × 10⁻⁴ Pa (турбомолекулна конфигурация и конфигурация на корени/ротационна поддържаща помпа)

Работно налягане

0,1 Pa ~ 2,0 Pa (Ar, N₂, C₂H₂, O₂)

Източници на катодна дъга

4 до 12 разпределени кръгли/правоъгълни филтрирани или стандартни източника с независимо магнитно управление

Пристрастие на субстрата

Импулсно постоянно отклонение (0 до -1000 V регулируемо, 10–100 kHz)

Отоплителна система

Лъчисти кварцови нагреватели; максимална температура на печене 500 градуса (±5 градуса равномерност)

Контролна архитектура

Siemens PLC + Индустриален компютър (IPC); автоматизирано изпълнение на рецепта и ръчно хардуерно пренасочване

Електроснабдяване

3-фазен, 380V/480V, 50Hz/60Hz (конфигуриран според регионалните стандарти)

 

Ключови характеристики


Висока йонизационна ефективност:Степента на плазмена йонизация достига 40%-80%, осигурявайки превъзходна адхезия на филма-към субстрата.


Модулни катоди:Бързо{0}}сменяемият целеви възел минимизира времето за престой при поддръжка; съвместим с планарни и въртящи се цилиндрични катоди.


Затворен{0}}контрол на газа:Контролерите за масов поток MKS поддържат прецизни парциални налягания на реактивния газ за комбинирани филми (TiAlN, TiCN).


Много{0}}осово въртене на планетата:Персонализираните задвижвания за въртене и въртене осигуряват равномерност на дебелината (±5%) в сложни 3D геометрии.


Двоен{0}}режим на работа:Поддържа изпаряване с постоянна дъга и импулсно разпръскване с отклонение за много-слойни архитектури.

 

Конфигурация на вакуумна система


Помпи за груба обработка:Комбинация от помпи Roots и ротационна лопатка за бързо изпомпване-надолу от атмосферата до 10 Pa.


Помпа за висок вакуум:Магнитно левитирана турбомолекулярна помпа (1600–3200 L/s), осигуряваща базово налягане-без въглеводороди.


Клапани и измервателни уреди:Пневматични високо{0}}вакуумни шибърни клапани с Pirani и йонизационни блокировки със студен катод за предотвратяване на обратната струя на маслото.


[Визуално ръководство за Web Producer]:Вмъкнете схематична или ясна снимка на оформлението на вакуумната водопроводна инсталация, подчертавайки турбомолекулярната помпа и позиционирането на пневматичния шибър.

 

Изпарителни материали и съвместимост на субстрата


Стандартни катодни цели (чистота по-голяма или равна на 99,95%)
Преходни метали:
Ti, Cr, Zr, Al, TiAl (50/50, 33/67 атомни съотношения), CrAl, W, Nb, Si.


Сплави и съединения:Графит (за DLC междинни слоеве), неръждаема стомана.


Съвместимост на субстрата и пред{0}}обработка
Материали:
WC-Режещи инструменти, фрезови фрези, протяжки, матрици за щамповане, шприцформи, титанови сплави (клас 5) и неръждаема стомана.


Предварително-третиране:Ултразвуково обезмасляване с разтворител и-почистване с йонна бомбардировка на място (Ar⁺ плазмено ецване) вътре в камерата преди отлагането.

 

Приложения


Инструменти за рязане и формоване:Покрития TiN, TiAlN и AlCrN, повишаващи твърдостта на повърхността до 3000–3500 HV, потискайки образуването на термични кратери и абразивното износване.


Автомобилни компоненти:Покрития за-намаляване на триенето за бутални пръстени, щифтове за впръскване на гориво и компоненти на зъбни колела.


Медицински импланти:Биосъвместими твърди покрития от TiN и ZrN върху ортопедични ставни протези и хирургически винтове.


Декоративен хардуер:Производство на цветови спектър (златен месинг, розово злато, бронзово черно, титаниево сиво) чрез настройка на реактивен газ.

 

Опции за персонализиране


Геометрия на камерата:Конфигурации за вертикално зареждане (монтирани-в шахта или-стоящи на пода) или хоризонтални конфигурации за-натоварване отпред.


Конфигурация на източника:Филтрирани катоднодъгови (FAC) източници на магнитни канали за елиминиране на макрочастици за оптична или прецизна електроника.


Автоматизация:Роботизирани рамена за зареждане, интегриране на AGV докинг станция и MES протоколи за регистриране на данни.

 

Контрол на качеството и фабрично тестване


Откриване на течове:Тестване с хелиев масспектрометър на всички камери и заваръчни шевове (По-малко или равно на 1 × 10⁻⁹ Pa·m³/s).


Електрическа безопасност:Изолационно съпротивление при високо{0}} напрежение, непрекъснатост на заземяването и функционална проверка на PLC блокировка.


Пробен пуск (FAT):72-часов непрекъснат тест за сухо-тест плюс стандартен тест за отлагане на покритие, оценен чрез Calo-тест (дебелина) и тестер за надраскване (адхезия).


Пакет документи:Електрически схеми, P&ID диаграми, изходни кодове на PLC, сертификати за материали и FAT отчети.

 

Инсталиране и техническа поддръжка


Подготовка на обекта:Подробни чертежи на оформлението, показатели за охлаждащата вода и спецификации за разпределение на мощността, предоставени 4 седмици преди изпращането.


Пускане в експлоатация:Механично сглобяване на -на място, вакуумно калибриране и предаване на рецепти от старши инженери по процеси.


Обучение:Практически-инструкции, обхващащи поддръжка на хардуер, отстраняване на проблеми с вакуума и протоколи за безопасност.


поддръжка:Интегриране на софтуер за дистанционна диагностика за-отстраняване на неизправности в PLC в реално време, подкрепено от регионален инвентар на резервни части.

 

ЧЗВ

 

В: Как системата контролира макрочастиците (капчиците)?

О: Стандартните системи използват оптимизирани полета за магнитно ограничаване, за да насочват бързо дъговите петна. За оптични или ултра{1}}гладки приложения ние интегрираме магнитни канали с филтрирана катодна дъга (FAC), за да филтрираме напълно капчиците.

В: Какъв е целевият процент на използване и времето за подмяна?

О: Планарните и кръглите цели постигат 45%-60% използване. Мишените са с водно-охлаждане и монтирани чрез уплътнения с бързо затягане, което позволява смяна на мишената в рамките на 45 минути.

В: Какви са изискванията за комунални услуги на съоръжението?

A: Захранване с охладена вода (8–15 m³/h, 18–22 градуса, 0,2–0,3 MPa), сгъстен въздух (0,6 MPa) и стабилно 3-фазно промишлено захранване.

В: Могат ли съществуващите рецепти за процес да бъдат прехвърлени?

A: Да. IPC платформата на Siemens позволява директно въвеждане на параметри за ток на дъгата, напрежение на отклонение, газов поток и продължителност, за да съответстват на съществуващите промишлени рецепти.

 

Популярни тагове: тънкослойно оборудване с катодна дъга, Китай тънкослойно оборудване с катодна дъга производители, доставчици, фабрика, трайно оборудване с тънък филм, Оборудване за тънко филмово оборудване за приложения за производство на устройства за изкуствен интелект, Система за разпръскване на тънък филм

Изпрати запитване
Свържете се с насако имате някакви въпроси

Можете да се свържете с нас чрез телефон, имейл или онлайн формата по-долу. Наш специалист ще се свърже с вас скоро.

Свържете се сега!