Общ преглед на продукта

 

PVD Composite Thin Film Equipment е индустриална платформа за вакуумно отлагане, проектирана за отлагане на много{0}}слойни, сплавни и нанокомпозитни тънки филми. Интегрирайки магнетронно разпрашване и източници на катодна дъга в една вакуумна камера, системата позволява прецизен контрол върху микроструктурата на филма, остатъчното напрежение и адхезията на повърхността. Създадена за непрекъснато производство и напреднала научноизследователска и развойна дейност, платформата побира метални, керамични и полимерни субстрати с мащабируема геометрия на камерата.

 
 
Технически спецификации

 

Параметър

Спецификация Диапазон

Крайно вакуумно налягане

<= 5.0 x 10^-5 Pa (Cryogenic/Turbomolecular pumping suite)

Работно налягане

0,1 Pa - 5.0 Pa

Температура на основата

Околна среда до 800 градуса (затворен-контур с PID управление)

Източници на отлагане

Конфигурируеми: DC/RF магнетронно разпръскване, импулсен DC, филтрирана катодна дъга

Еднородност на дебелината

< +/- 3% across standard 300 mm substrate carrier

Материал на камерата

304L/316L неръждаема стомана, механично шлайфана и електро{2}}полирана (Ra<= 0.4 um)

Интегриране на захранване

MF генератори (10-100 kHz), RF генератори (13,56 MHz), импулсно постоянно отклонение

Система за контрол

Индустриален PLC + IPC с автоматизирано изпълнение на рецепти, наблюдение на блокировка и регистриране на партидни данни

 

Процес на композитно отлагане

Системата използва хибридна архитектура за физическо отлагане на пари, съчетаваща магнетронно разпрашване и технологии с катодна дъга.

Синергия от-източници:

Едновременната или последователна работа на множество катоди позволява резки или степенувани композиционни преходи в купчината филми.

 

Предварително-почистване с йонно ецване:

Етапите на RF или DC плазмено почистване премахват естествените оксиди и повърхностните замърсители преди отлагането, за да увеличат максимално адхезията на покритието-към-субстрата.

Контрол на реактивното отлагане:

Оптичната емисионна спектроскопия със затворен -контур (OES) регулира инжектирането на реактивен газ (O2, N2, C2H2), за да поддържа стабилна стехиометрия на съединението и да предотврати отравяне на целта.

Изместване на субстрата:

Синхронизираните импулсни захранващи устройства бомбардират нарастващия филм с йони с висока{0}}енергия, уплътнявайки микроструктурата и коригирайки остатъчното напрежение при натиск.

 

Филмови материали

Оборудването поддържа широк спектър от целеви материали за персонализирани функционални изисквания:

PVD Hybrid Thin Film Deposition System

Нитриди и карбиди на преходни метали:

TiN, TiAlN, CrN, ZrN, TiCN за устойчивост на износване и корозия.

 

 
PVD Composite Deposition Equipment

Нанокомпозитни и многослойни системи:

TiSiN, AlTiSiN, метални/керамични нанослоеве за изключителна твърдост и висока{0}}температурна термична стабилност.

 
PVD Composite Thin Film System

Прозрачни проводими оксиди (TCO):

ITO, AZO, IGZO за оптоелектронни и фотоволтаични приложения.

 
PVD Composite Thin Film Equipment

Чисти метали и сплави:

Ti, Cr, Al, Cu, неръждаема стомана, NiCr за електрически контактни и дифузионни бариерни слоеве.

 
Приложения
 
 
 

Прецизни режещи инструменти:

Отлагане на супер{0}}твърди покрития с ниско-триене (напр. TiAlN) върху карбидни пластини, свредла и челни-фрези за удължаване на експлоатационния живот при високи термични натоварвания.

 
 

Автомобилни компоненти:

Намаляване на триенето и{1}}устойчиви на износване филми върху бутални пръстени, части за впръскване на гориво и зъбни колела.

 
 

Оптоелектроника и дисплеи:

Проводими оксидни слоеве с ниско-съпротивление, високо-пропускане за сензорни панели и субстрати на слънчеви клетки.

 
 

Медицински изделия:

Биосъвместими и устойчиви{0}}на износване покрития върху хирургически инструменти и ортопедични импланти.

 

 

Персонализиране и системна конфигурация

Инженерните конфигурации са адаптирани към специфични ограничения на производствените съоръжения и рецепти на процеса:

Размер на камерата:

Варианти с цилиндрични или правоъгълни камери, вариращи от партидни системи за научноизследователска и развойна дейност (диаметър 500 mm) до широко{1}}затворни-заключващи системи (1000 mm+).

01

Избор на пакет за изпомпване:

Съпоставяне на коренови вентилатори, турбомолекулярни помпи и криогенни помпи въз основа на необходимите времена за{0}}престой на помпата и профили на натоварване с газ.

02

Закрепване на субстрата:

Персонализирани етапи на планетарно въртене, 3-осово сателитно въртене или модули от-ролка към ролка, проектирани за сложни 3D геометрии или непрекъснати мрежи.

03

Ниво на автоматизация:

Полу-автоматизирани конфигурации за ръчно зареждане или напълно автоматизирани системи за вакуумно пренасяне с роботизирана обработка на субстрата.

04

 

Производство и контрол на качеството
 

Откриване на течове:

Всяка вакуумна камера се подлага на тест за течове с хелиев масспектрометър до праг от < 1 x 10^-10 Pa * m^3 / s.

Проверка на заваръчните шевове:

Страничните-вакуумни заварки са TIG заварени, шлифовани и полирани, последвани от рентгенова -инспекция или проникваща инспекция с багрило при поискване.

Съответствие с електричество и безопасност:

Контролни панели, изградени в съответствие със стандартите NFPA 79 или CE/IEC, включващи хардуерни блокировки за воден поток, налягане на газа и електрическа безопасност.

Фабрично приемане (FAT):

-Тестването преди изпращане включва 72-часа непрекъснато сухо-циклиране, проверка на ефективността на вакуума и тестово отлагане на покритие с помощта на рецепти, посочени от клиента.

 

 

Инсталиране и техническа поддръжка

Указания за подготовка на място:Осигурен е документ за изчерпателни изисквания към съоръженията, описващ интерфейсите на комуналните услуги (поток/налягане на охлаждащата вода, електрически товар, сгъстен въздух, изпускателна система).


Пускане в-на място:Инженерите за обслужване на място извършват механично подравняване, вакуумни проверки за течове, електрически връзки и първоначално калибриране.


Настройка на рецептата на процеса:Сътрудничество на -на място с клиенти металурзи и инженери по процеси за заключване на целеви параметри за дебелина на филма, напрежение и твърдост.


Поддръжка на жизнения цикъл:Интерфейс за дистанционна диагностика, локализиран инвентар на резервни части и планирани програми за превантивна поддръжка.

PVD Composite Vacuum Deposition Equipment

 

 

ЧЗВ

 

 

Въпрос: Какво е типичното време-за спиране на помпата за достигане на базовото налягане?

О: Използвайки стандартни високо{0}}вакуумни конфигурации (турбомолекулни или криогенни помпи, съчетани с помпи с корени/въртящи се лопатки), камерата се евакуира от атмосферата до < 5,0 x 10^-4 Pa в рамките на 25 до 40 минути, в зависимост от обема на камерата и натоварването на отделяне на влага.

В: Може ли системата автоматично да превключва между реактивен и не{0}}реактивен режим на разпръскване?

A: Да. Софтуерът за управление на PLC управлява динамично контролерите за масов поток (MFC) и изходите на захранването, позволявайки автоматизиран преход между метално отлагане и образуване на реактивно съединение в рамките на един процес.

В: Какви геометрии на субстрата може да поеме стандартното планетарно ротационно стъпало?

A: Стандартното 3-осно планетарно приспособление обработва сложни 3D компоненти като режещи инструменти и автомобилни клапани. Персонализирани приспособления могат да бъдат проектирани за плоски субстрати до 400 mm x 400 mm или цилиндрични ролки.

Въпрос: Как осигурявате еднаква дебелина на филма в големи партиди?

О: Еднородността се постига чрез оптимизирано разстояние между катод-до-субстрат, локализирана симулация на профил на магнитно поле и много{2}}осово въртене на планетата. Действителната еднородност се проверява чрез тестване на пробни свидетели по време на FAT.

В: Какви са изискванията за комунални услуги за стандартна индустриална единица?

A: Обикновено изисква 3-фазно 380V/480V (50/60Hz), захранване с охладена охлаждаща вода (приблизително 15 до 20 градуса при 3 до 4 бара), сгъстен въздух (6 бара) за пневматични клапани и чист сух въздух или азот за вентилация. Точните натоварвания варират според конфигурацията на захранването.

Ние сме добре-известни като един от водещите производители и доставчици на оборудване за pvd композитни тънки филми в Китай. Ако възнамерявате да закупите персонализирано pvd композитно тънкослойно оборудване, произведено в Китай, добре дошли да получите ценова листа от нашата фабрика. За ценова консултация се свържете с нас.

Изпрати запитване
Свържете се с насако имате някакви въпроси

Можете да се свържете с нас чрез телефон, имейл или онлайн формата по-долу. Наш специалист ще се свърже с вас скоро.

Свържете се сега!