PVD Composite Thin Film Equipment е индустриална вакуумна платформа, предназначена да синтезира много{0}}слойни, сплавни и градирани тънки филми. Изграден върху модулна архитектура от неръждаема стомана 304L/316L, той интегрира до четири независими източника на отлагане-включително DC/RF магнетронно разпръскване, изпаряване на електронен лъч и термални източници-в една-контролирана камера за замърсяване. Системата осигурява прецизен контрол върху микроструктурата на филма, остатъчното напрежение и композиционните градиенти за производствени линии и напреднали R&D.
Технически спецификации
|
Параметър |
Спецификация |
Стандарт / Състояние |
|
Крайно базово налягане |
<= 5.0 x 10^-6 Pa |
Крио/Турбо поддръжка |
|
Работно налягане |
0,1 до 5,0 Pa |
Зависи от процеса |
|
Капацитет на субстрата |
φ300 mm вафли или 400 x 400 mm субстрати |
Налични палети по поръчка |
|
Еднородност на дебелината |
<= ±2% |
Измерено върху цялата повърхност на субстрата |
|
Температура на основата |
Стайна температура до 800 градуса |
PID контролиран-затворен контур |
|
Портове за отлагане |
4 независими модулни слота |
Конфигурируем разпръскващ/е-лъч |
|
Камерна конструкция |
304L / 316L неръждаема стомана |
Електро{0}}полиран, Ra<= 0.2 μm |
|
Разпределение на мощността |
DC, RF (13,56 MHz), импулсен DC, Bias |
Блокировка за безопасност на PLC |
Ключови характеристики
Модулна много{0}}изходна архитектура:Изпълнява последователно или съ-отлагане от до четири източника в един вакуумен цикъл.
Ултра{0}}чиста вакуумна цялост:Използва метални-запечатани CF фланци, пневматични шибъри и-безмаслено грубо/турбомолекулно изпомпване за предотвратяване на замърсяване с въглеводороди.
Динамично отклонение на субстрата:RF/DC отклонението с променлива честота контролира входящата йонна енергия, за да управлява плътността, твърдостта и напрежението на филма.
Автоматизирано управление на рецепти:Индустриалните PLC и HMI съхраняват до 200 профила на процеси, автоматизирайки изпомпване, задействане на затвора и обезвъздушаване.
Портове за-наблюдение на място:Предварително-конфигурираните фланци побират QCM сензори за дебелина и оптични емисионни спектрометри (OES).
Вакуумни и газови подсистеми
Помпен стек:Безмаслените коренови/винтови груби помпи, съчетани с магнитно левитиращи турбопомпи или криопомпи, достигат 5 x 10^-6 Pa от атмосферата в рамките на 45 минути.
Доставка на газ:Контролерите за масов дебит (MFC) регулират Ar, O2 и N2 с ±1% точност на пълната скала; интегрираните пречистватели поддържат 99,9999% чистота на газа.
Топлинно управление:Корпусите на камерите разполагат с двойно{0}}стенни водни-охлаждащи канали за стабилизиране на структурните размери по време на работа при висока-температура.
Съвместимост на материали и субстрат
Поддържани материали
Метали:Ti, Cr, Al, Cu, Au, Pt, NiCr, TiAl
Диелектрици / Оксиди:SiO2, TiO2, Al2O3, Si3N4
Твърди покрития:TiN, TiCN, CrN, DLC междинни слоеве
Съвместимост на субстрата
Силиконови пластини (φ100 mm до φ300 mm).
Оптични субстрати от стопен силициев диоксид, кварц и керамика.
Инструментални стомани и титанови сплави, изискващи предварително-чисто RF плазмено ецване.
Приложения
полупроводник:Бариерни слоеве, зародишни слоеве и свързващи метални стекове.
Оптика:Филтри за оптични смущения, анти{0}}антирефлексни (AR) покрития и високо-рефлекторни огледала.
Защита от износване:Много{0}}слойни твърди покрития за режещи инструменти и аерокосмически компоненти.
Съхранение на енергия:Тънки филми за електролити и токоприемници-за батерии в твърдо състояние.
Персонализиране
Геометрия на камерата:Променете вътрешните размери или ъглите на портовете, за да паснат на стария хардуер или жабката.
Адаптация на източника:Интегрирайте специфични рейтинги на е-лъчева пушка, дължини на магнетрони или термични лодки.
Софтуерна интеграция:Конфигурирайте PLC логиката, за да съответства на SCADA протоколите на съоръжението или стандартите SECS/GEM.
Контрол на качеството
Откриване на течове:Тестването с хелиев масов спектрометър е потвърдено до 1 x 10^-10 Pa·m³/s.
Електрическа безопасност:Непрекъснатост на заземяването, съпротивление на изолацията и проверка на E-stop съгласно стандартите CE/NFPA.
Пред{0}}изпълнение:Фабричното тестово отлагане проверява основното налягане, стабилността на източника и еднородността на дебелината; информационните листове се доставят с уреда.
Инсталиране и поддръжка
Документация:Пълни електрически схеми, P&ID диаграми, ръководства за работа на PLC и сертификати за калибриране.
Фабрично приемане (FAT):Проверката и валидирането на клиентите се извършват в нашия производствен етаж преди опаковането.
Пускане в експлоатация (SAT):Инженерите на място контролират механичното подравняване, свързването на комунални услуги и-тестването за приемане на място.
ЧЗВ
В: Какво е стандартното време за изпълнение на системата?
О: 16 до 24 седмици, в зависимост от обема на камерата, количеството на източника и персонализираните изисквания за автоматизация.
Въпрос: Може ли системата да превключва между радиочестотно разпръскване и изпаряване с електронен{0}}лъч без нарушаване на вакуума?
A: Да. Мулти-портовата архитектура позволява автоматизирано последователно отлагане в отделни източници при непрекъснат вакуум.
Въпрос: Какви комунални връзки са необходими на-сайта?
A: 3-фазно променливотоково захранване, охладена вода със затворен контур (18 градуса до 22 градуса), сгъстен въздух (0,6 MPa) и специални линии за технологичен газ.
В: Как се регулира температурата на субстрата по време на обработка?
О: Държачите на субстрата използват вградени термодвойки или оптични пирометри, свързани с PID нагреватели със затворен -контур и охлаждане с газова проводимост отзад.
Популярни тагове: pvd композитно тънкослойно оборудване, Китай pvd композитно тънкослойно оборудване производители, доставчици, фабрика

