PVD оборудване за тънкослойно композитно покритие

PVD оборудване за тънкослойно композитно покритие

Детайли
PVD Composite Thin Film Equipment е индустриална вакуумна платформа, предназначена да синтезира много{0}}слойни, сплавни и градирани тънки филми. Изграден върху модулна архитектура от неръждаема стомана 304L/316L, той интегрира до четири независими източника на отлагане — включително DC/RF магнетронно разпръскване, изпаряване на електронен лъч и топлинни източници — в една-контролирана камера за замърсяване. Системата осигурява прецизен контрол върху микроструктурата на филма, остатъчното напрежение и композиционните градиенти за производствени линии и напреднали R&D.
Класификация на продуктите
PVD оборудване за тънкослойно композитно покритие
 
Изпрати запитване
Описание
Технически параметри

PVD Composite Thin Film Equipment е индустриална вакуумна платформа, предназначена да синтезира много{0}}слойни, сплавни и градирани тънки филми. Изграден върху модулна архитектура от неръждаема стомана 304L/316L, той интегрира до четири независими източника на отлагане-включително DC/RF магнетронно разпръскване, изпаряване на електронен лъч и термални източници-в една-контролирана камера за замърсяване. Системата осигурява прецизен контрол върху микроструктурата на филма, остатъчното напрежение и композиционните градиенти за производствени линии и напреднали R&D.

 

Технически спецификации

 

Параметър

Спецификация

Стандарт / Състояние

Крайно базово налягане

<= 5.0 x 10^-6 Pa

Крио/Турбо поддръжка

Работно налягане

0,1 до 5,0 Pa

Зависи от процеса

Капацитет на субстрата

φ300 mm вафли или 400 x 400 mm субстрати

Налични палети по поръчка

Еднородност на дебелината

<= ±2%

Измерено върху цялата повърхност на субстрата

Температура на основата

Стайна температура до 800 градуса

PID контролиран-затворен контур

Портове за отлагане

4 независими модулни слота

Конфигурируем разпръскващ/е-лъч

Камерна конструкция

304L / 316L неръждаема стомана

Електро{0}}полиран, Ra<= 0.2 μm

Разпределение на мощността

DC, RF (13,56 MHz), импулсен DC, Bias

Блокировка за безопасност на PLC

 

Ключови характеристики


Модулна много{0}}изходна архитектура:Изпълнява последователно или съ-отлагане от до четири източника в един вакуумен цикъл.


Ултра{0}}чиста вакуумна цялост:Използва метални-запечатани CF фланци, пневматични шибъри и-безмаслено грубо/турбомолекулно изпомпване за предотвратяване на замърсяване с въглеводороди.


Динамично отклонение на субстрата:RF/DC отклонението с променлива честота контролира входящата йонна енергия, за да управлява плътността, твърдостта и напрежението на филма.


Автоматизирано управление на рецепти:Индустриалните PLC и HMI съхраняват до 200 профила на процеси, автоматизирайки изпомпване, задействане на затвора и обезвъздушаване.


Портове за-наблюдение на място:Предварително-конфигурираните фланци побират QCM сензори за дебелина и оптични емисионни спектрометри (OES).

 

Вакуумни и газови подсистеми


Помпен стек:Безмаслените коренови/винтови груби помпи, съчетани с магнитно левитиращи турбопомпи или криопомпи, достигат 5 x 10^-6 Pa от атмосферата в рамките на 45 минути.


Доставка на газ:Контролерите за масов дебит (MFC) регулират Ar, O2 и N2 с ±1% точност на пълната скала; интегрираните пречистватели поддържат 99,9999% чистота на газа.


Топлинно управление:Корпусите на камерите разполагат с двойно{0}}стенни водни-охлаждащи канали за стабилизиране на структурните размери по време на работа при висока-температура.

 

Съвместимост на материали и субстрат

 

Поддържани материали

Метали:Ti, Cr, Al, Cu, Au, Pt, NiCr, TiAl
Диелектрици / Оксиди:SiO2, TiO2, Al2O3, Si3N4
Твърди покрития:TiN, TiCN, CrN, DLC междинни слоеве

 

Съвместимост на субстрата

Силиконови пластини (φ100 mm до φ300 mm).
Оптични субстрати от стопен силициев диоксид, кварц и керамика.
Инструментални стомани и титанови сплави, изискващи предварително-чисто RF плазмено ецване.

Приложения


полупроводник:Бариерни слоеве, зародишни слоеве и свързващи метални стекове.


Оптика:Филтри за оптични смущения, анти{0}}антирефлексни (AR) покрития и високо-рефлекторни огледала.


Защита от износване:Много{0}}слойни твърди покрития за режещи инструменти и аерокосмически компоненти.


Съхранение на енергия:Тънки филми за електролити и токоприемници-за батерии в твърдо състояние.

 

Персонализиране


Геометрия на камерата:Променете вътрешните размери или ъглите на портовете, за да паснат на стария хардуер или жабката.


Адаптация на източника:Интегрирайте специфични рейтинги на е-лъчева пушка, дължини на магнетрони или термични лодки.


Софтуерна интеграция:Конфигурирайте PLC логиката, за да съответства на SCADA протоколите на съоръжението или стандартите SECS/GEM.

 

Контрол на качеството


Откриване на течове:Тестването с хелиев масов спектрометър е потвърдено до 1 x 10^-10 Pa·m³/s.


Електрическа безопасност:Непрекъснатост на заземяването, съпротивление на изолацията и проверка на E-stop съгласно стандартите CE/NFPA.


Пред{0}}изпълнение:Фабричното тестово отлагане проверява основното налягане, стабилността на източника и еднородността на дебелината; информационните листове се доставят с уреда.

 

Инсталиране и поддръжка


Документация:Пълни електрически схеми, P&ID диаграми, ръководства за работа на PLC и сертификати за калибриране.


Фабрично приемане (FAT):Проверката и валидирането на клиентите се извършват в нашия производствен етаж преди опаковането.


Пускане в експлоатация (SAT):Инженерите на място контролират механичното подравняване, свързването на комунални услуги и-тестването за приемане на място.

 

ЧЗВ

 

В: Какво е стандартното време за изпълнение на системата?

О: 16 до 24 седмици, в зависимост от обема на камерата, количеството на източника и персонализираните изисквания за автоматизация.

Въпрос: Може ли системата да превключва между радиочестотно разпръскване и изпаряване с електронен{0}}лъч без нарушаване на вакуума?

A: Да. Мулти-портовата архитектура позволява автоматизирано последователно отлагане в отделни източници при непрекъснат вакуум.

Въпрос: Какви комунални връзки са необходими на-сайта?

A: 3-фазно променливотоково захранване, охладена вода със затворен контур (18 градуса до 22 градуса), сгъстен въздух (0,6 MPa) и специални линии за технологичен газ.

В: Как се регулира температурата на субстрата по време на обработка?

О: Държачите на субстрата използват вградени термодвойки или оптични пирометри, свързани с PID нагреватели със затворен -контур и охлаждане с газова проводимост отзад.

 

Популярни тагове: pvd композитно тънкослойно оборудване, Китай pvd композитно тънкослойно оборудване производители, доставчици, фабрика

Изпрати запитване
Свържете се с насако имате някакви въпроси

Можете да се свържете с нас чрез телефон, имейл или онлайн формата по-долу. Наш специалист ще се свърже с вас скоро.

Свържете се сега!