Индустриална-система за вакуумно покритие, интегрираща магнетронно разпрашване (RF/DC/HiPIMS) и изпаряване с катодна дъга. Проектиран за непрекъснато, много{2}}слойно, сплавно и нано-композитно отлагане на тънък-слой в производствен мащаб.
Технически спецификации
|
Параметър |
Стойност на спецификацията |
|
Крайно вакуумно налягане |
<= 5.0 x 10^-4 Pa (Turbo-molecular and roots-rotary pump configuration) |
|
Размери на камерата |
Персонализирано оразмеряване от D 600 mm x 600 mm до D 1500 mm x 1500 mm (304/316L електро-полирана неръждаема стомана) |
|
Източници на отлагане |
Конфигурируеми: 2-6 катода за магнетронно разпръскване / 2-4 източника на дъга |
|
Мощност на отклонение на субстрата |
0 до -1000 VDC регулируем (импулсен DC за диелектрични субстрати) |
|
Еднородност на дебелината на филма |
<= +/- 3% across standard planar holder (via dynamic planetary rotation) |
|
Температура на основата |
Околна среда до 650 градуса (+/- 2 градуса PID затворен-контролен контур) |
|
Разпределение на мощността |
RF (13,56 MHz), DC, импулсен DC и средна-честота (MF) с потискане на дъгата |
Ключови характеристики
Интеграция на двойна-технология:Комбинира разпрашаване (гладки, аморфни съставни филми) и катодна дъга (отлагане на метал/сплав с висока-йонизация) в един цикъл на изпомпване-надолу.
Управление на газа в затворен-контур:Контролерите за масов дебит (MFC), съчетани с оптичен мониторинг на емисиите (OEM), стабилизират парциалните налягания на реактивния газ.
Механична изолация:Много{0}}осните планетарни задвижвания изолират механичните лагери от зоната на обработка, предотвратявайки замърсяване с частици.
Термична архитектура:Стените на камерата с водно-охлаждане-двойни{1}}стени и радиационното екраниране предотвратяват термично изкривяване по време на-работа с висока мощност.
Ядро на автоматизацията:Siemens S7-1500 PLC и WinCC SCADA архитектура за блокиране в реално време, газ и мониторинг на мощността.
Конфигурация на вакуумна система
Груб влак:Ротационни{0}}лопаткови помпи с директно задвижване, поддържани от вентилатори на Roots с магнитни флуидни уплътнения.
Висок вакуум:Магнитно левитиращи турбо{0}}молекулярни помпи (1200 - 3200 L/s) или криогенни помпи.
Диагностика:Интегрирани тестови портове за хелиев масспектрометър и автоматични блокировки за последователност.
Съвместимост на материали и субстрат
Целеви материали:
Метали:Ti, Cr, Al, Zr, Cu, TiAl, CrAl, Si
Керамика/компаунди:TiN, CrN, TiAlN, DLC, Al2O3, SiO2
Субстрати:Инструментални стомани (H13, M2, карбидни вложки), титаниеви/алуминиеви структурни сплави, инженерна керамика и силициеви пластини.
Приложения и доказана производителност
Режещи инструменти:Многослойни покрития с ниско-триене, висока-твърдост- (TiAlN/TiN) за удължен живот на инструмента при суха-високоскоростна обработка.
Автомобили:Покрития против износване и{0}}надраскване за бутални пръстени и щифтове за впръскване на гориво.
Космонавтика:Устойчива на окисление -термична бариера и защитни филми върху лопатките на компресора и крепежните елементи.
Оптика и електроника:Проводими прозрачни оксиди (ITO) и филтри за оптични смущения.
Опции за персонализиране
Геометрия на камерата:Конфигурации на правоъгълни кутии за партидно зареждане на стелажи или цилиндрични вградени геометрии.
Преоборудване на източника:Сменяеми катодни монтажни фланци за полево преобразуване в CFUBMS.
Плазмено ецване:Йонни пистолети тип Kaufmann или източници с кухи катоди за-почистване на субстрат на място.
Контрол на качеството и фабрично тестване
Целостта на вакуума:Праг на теста за теч на хелий<= 1 x 10^-9 Pa*m^3/s.
Повърхностно покритие:Вътрешните заварки на камерата са електро-полирани до Ra<= 0.4 um.
МАЗНИНИ:72-часов непрекъснат тест на сухо на вакуум, движение и блокиращи контури за безопасност преди опаковане.
Стандарти за съответствие:Създаден в съответствие с директивите за машини CE и стандартите ISO 9001. (Икони за значка за доверие: ISO 9001, CE, UL)
Инсталиране и техническа поддръжка
Пакет документи:P&ID схеми, схеми на електрическо окабеляване, логика на източника на PLC и досиета за съответствие с CE/UL.
Пускане в експлоатация:Полевите инженери контролират механичното позициониране, свързването на комуналните услуги и проверката на проверката за течове.
SAT и предаване на рецепти:Базови тестове на-сайта и оптимизация на рецепти.
ЧЗВ
Въпрос: Какво е времето-за спиране на помпата до базовото налягане?
A: Достига < 5,0 x 10^-4 Pa в рамките на 45 минути при чисти, сухи и топлинни условия на околната среда.
В: Може ли системата да превключва между DC и RF разпръскване по време на-процес?
A: Да. Матрицата на мощността позволява софтуерно-контролирана последователност между DC, импулсен DC и RF без нарушаване на вакуума.
Въпрос: Какви помощни програми са необходими на-сайта?
A: Охладена вода (15 до 20 градуса при 0,3 до 0,4 MPa), сгъстен въздух (0,6 MPa), високо-чисти технологични газове (Ar, N2, O2 при 99,999%) и специално 3-фазно промишлено захранване.
Въпрос: Как се регулира температурата на субстрата по време на отлагане?
О: Интегрирани инфрачервени пирометри, съчетани с лъчисти нагревателни банки и PID управление със затворен -контур.
Популярни тагове: pvd композитна тънкослойна система, Китай pvd композитна тънкослойна система производители, доставчици, фабрика
